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聯(lián)系人:趙先生 (經(jīng)理)

  • NXQ Mask Alignment光刻機

    詳細摘要: 恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,NXQ4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統(tǒng),穩(wěn)定的接近式和接觸式光...

    產(chǎn)品型號:NXQ4000系列所在地:上海市更新時間:2021-05-21 在線留言

  • 光刻機Aligner MMA

    詳細摘要: MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導體制造和科研領域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應用于半導體光刻...

    產(chǎn)品型號:MMA16所在地:上海市更新時間:2021-05-21 在線留言

  • 光刻機Mask Aligner

    詳細摘要: 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學中的微機開發(fā)。操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴...

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  • 掩膜曝光光刻機Mask Aligner

    詳細摘要: 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器,在晶片的頂側和底側包括對準光學系統(tǒng),因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸,軟接觸和接近圖...

    產(chǎn)品型號:MPEM-1600所在地:上海市更新時間:2021-05-20 在線留言

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